2025年度 (最新) 学院等開講科目物質理工学院材料系材料コース

実践ＳＥＭ観察技術概論 3

開講元: 材料コース
担当教員: 村石信二
授業形態: 演習
メディア利用科目: -
曜日・時限 (講義室)
クラス: 3
科目コード: MAT.M422
単位数: 010
開講時期: 2025年度
開講クォーター: 3Q
シラバス更新日: 2025年3月19日
使用言語: 日本語

シラバス

授業の目的（ねらい）、概要

材料評価の手法として広く用いられるSEM（走査電子顕微鏡）を操作することで，SEM像の各種観察法と基本原理を演習形式で学ぶ。

到達目標

ＳＥＭの実機を操作しながら，代表的な観察法と分析法を習得することを目標とする．

キーワード

走査型電子顕微鏡，ＳＥＭ，2次電子像，反射電子像，波長分散型Ｘ線分光分析，エネルギー分散型Ｘ線分析

学生が身につける力

専門力
教養力
コミュニケーション力
展開力 (探究力又は設定力)
展開力 (実践力又は解決力)

授業の進め方

インストラクターの指示に従う．各回テーマの内容に沿ってSEM観察や分析評価を行う．
(インストラクター：大岡山分析部門　多田大)

授業計画・課題

	授業計画	課題
第1回	SEMの基本原理と操作法走査電子顕微鏡の基本構造の解説基本項目の確認（倍率、焦点、非点、明るさ、コントラスト等）	SEMの基本原理、操作法, 観察試料について理解する
第2回	試料形状と二次電子情報　材料への電子線照射と発生信号，試料傾斜とコントラスト，試料形状と二次電子情報，検出器とＳＥＭ像の位置関係，試料のチャージアップと導電処理	材料や試料形状が二次電子像に与える影響を理解する
第3回	ＳＥＭ像と加速電圧・照射電流 WDと焦点深度，二次電子像と加速電圧および照射電流量の関係電子線照射による試料損傷	加速電圧・照射電流が二次電子像に与える影響を理解する。
第4回	反射電子像観察二次電子像と反射電子像（組成像）の違い, 試料傾斜による組成像チャネリングコントラスト凹凸像	反射電子像と二次電子像の違いを理解する
第5回	WDS分析（１) 特性X線と分光法（EDS、WDS）の原理　反射電子像とWDS分析　試料高さとWDSスペクトル　定量分析	元素分析のエネルギー分光法、波長分光法を理解する
第6回	EDS分析（１）　 EDSスペクトル　ピークの同定　スポット分析　　　EDSとWDSのS/N比	EDS の分析ピークを理解する
第7回	EDS分析（２) 　凹凸試料のEDSマッピング	EDSマッピングと試料表面の影響を理解する

準備学修(事前学修・復習)等についての指示

学修効果を上げるため，教科書や配布資料等の該当箇所を参照し，「毎授業」授業内容に関する予習と復習（課題含む）をそれぞれ概ね100分を目安に行うこと。

教科書

例えば，「新　走査型電子顕微鏡」（日本顕微鏡学会関東支部編）

参考書、講義資料等

当日配布

成績評価の方法及び基準

テスト・補講期間に総合討論会を行う
インストラクターから指示された課題による評価（100％）

履修の条件・注意事項

材料科学に関連した基礎的知識
少人数制のため，事前に履修学生を募集を行います.
(南８号館に掲示します)