2024年度 学院等開講科目 物質理工学院 材料系 材料コース
先進無機材料プロセス特論
- 開講元
- 材料コース
- 担当教員
- 松下 伸広 / 谷口 貴章
- 授業形態
- 講義 (ライブ型)
- メディア利用科目
- -
- 曜日・時限
(講義室) - 木3-4 (S7-201)
- クラス
- -
- 科目コード
- MAT.C510
- 単位数
- 100
- 開講時期
- 2024年度
- 開講クォーター
- 1Q
- シラバス更新日
- 2025年3月14日
- 使用言語
- 英語
シラバス
授業の目的(ねらい)、概要
スパッタ法やPLDなどのドライプロセス、水熱法やスピンスプレー法などのウェットプロセスでを用いて作製する機能性無機材料の物性や応用例について講義を行う。ウェットプロセスにより無機材料が作製される反応過程の検証に加えて、ウェットプロセスにより作製する二次元構造材料の機能性や代表的な無機構造材料であるセメントに関するプロセスと応用を紹介する。
到達目標
無機材料を作製するためのドライプロセスやウェットプロセスそれぞれの反応過程を理解すると共に、それらによって作製された無機材料の機能性も理解する。
キーワード
ドライプロセス、ウェットプロセス、無機機能性薄膜、ナノ構造、セメント材料
学生が身につける力
- 専門力
- 教養力
- コミュニケーション力
- 展開力 (探究力又は設定力)
- 展開力 (実践力又は解決力)
授業の進め方
7回のうち6回は教員は講義室で講義するが学生はZoomを使ったオンライン聴講も可能とする。非常勤講師による講義は完全オンラインとする。
授業計画・課題
授業計画 | 課題 | |
---|---|---|
第1回 | はじめに | 講義内容概要について学ぶ |
第2回 | 機能性材料用ドライプロセスとスパッタ法による酸化物磁性材料膜の作製 | 機能性材料用の作製に用いられるドライプロセス概要とスパッタ法による記録層用磁性膜の作製について学ぶ |
第3回 | ウェットプロセスによる先進無機材料膜の作製と応用 | ウェットプロセスによる無機磁性材料膜、無機誘電体膜、無機半導体膜の作製と特性評価について学ぶ |
第4回 | ウェットプロセスによる無機ナノ粒子・無機ナノ構造・ナノ被覆+セメントプロセス | 低環境負荷なウェットプロセスを中心とした先進プロセスにより作製する無機ナノ粒子・ナノ構造・ナノ被覆およびセメントプロセスについて学ぶ |
第5回 | 超低環境負荷無機材料プロセス | 機能性材料創成用超低環境負荷プロセスの反応について学ぶ |
第6回 | 二次元無機材料と機能 | 二次元材料作製用先進プロセスと新機能創出について学ぶ |
第7回 | 先進無機材料のバイオメディカル応用とパワー応用 | ナノ構造形成によるインプラント表面の生体活性化やフェライトナノ粒子によるハイパーサーミアなどのバイオ応用に加えて、磁性金属のフェライト被覆によるパワーコア応用について学ぶ |
準備学修(事前学修・復習)等についての指示
学修効果を上げるため,教科書や配布資料等の該当箇所を参照し,「毎授業」授業内容に関する 予習と復習(課題含む)をそれぞれ概ね100分を目安に行うこと。
教科書
無し
参考書、講義資料等
講義資料はT2SCHOLAより配布
成績評価の方法及び基準
レポートにより採点する。
関連する科目
- MAT.C305 : 固体物性I(概論・半導体)
- MAT.C307 : 固体物性II(誘電体・磁性体)
- MAT.C315 : 薄膜・単結晶プロセシング
履修の条件・注意事項
無し